NPC-3000等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。

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廠商性質：代理商
更新時間：2025-09-17
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Plasma Asher等離子去膠機

NPC-3000等離子去膠機(刻蝕機)概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。

NPC-3000等離子去膠機(刻蝕機)產品特點

臺式系
不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
兼容100級超凈間使用
淋浴頭、ICP或微波等離子源
旋轉樣品臺
RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
全自動或手動RF調諧
z多可支持4個MFC帶電拋光的氣體管路
PC計算機控制的氣動閥
帶密碼保護的多級訪問控制
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
機械泵的壓力可達到10mTorr
250 l/s的渦輪分子泵
極限真空為5x10-7Torr
完整的安全聯鎖

應用：

有機物以及無機物的殘留物去除
光刻膠剝離或灰化
去殘膠以及內腐蝕(深腐蝕)應用
清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
提高黏附性，消除鍵合問題
塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能
產生親水或疏水表面

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